Dry Etcher 기술개발 동향과 발전

문주태

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

Vibration Reduction of Spin Etcher

Rim ,  Kyung-Hwa ,  Lee 외 3명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2002 .01

Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석

강정원 ,  이동현 ,  김재정

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Fault Detection of Plasma Etchers using Big Data Analysis

Wei Qin ,  Jungang Yang ,  Jie Zhang

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2014 .09

수직형 식각 장비의 노즐 분사 시스템에 대한 연구

김준영 ,  주강우 ,  윤종국 외 2명

반도체디스플레이기술학회지

2011 .01

차세대 Poly Etcher 장비에 요구되는 요소 기술의 이해

손종원

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher

강창진 ,  최창원 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Oxide Etcher 용 E-Chuck의 기술개발

조남인 ,  남형진 ,  박순규

한국산학기술학회 논문지

2003 .12

Spin Etcher의 진동 분석

임경화 ,  이은경 ,  조중근

한국반도체장비학회지

2003 .01

Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher

정상섭 ,  신철호 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

ICP etcher에서의 high conductance 최적화와 SiO₂ 식각 모델링

양원균 ,  주정훈 ,  남창길

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .05

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Tri-Level Resist Etch in a Magnetically Enhanced Reactive Ion Etcher

Y. S. Seol ,  J. H. Ha ,  C. K. Bok 외 4명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01

평판형 반응성 이온 식각기의 설계변수 분석 ( Design Parameter Analysis for a Planar Type Reactive Ion Etcher )

강봉구 ,  박성호 ,  전영진

전자공학회논문지

1989 .11

ADP DRY ETCHER TECHNOLOGY

김정태

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

Thickness Measurement of Thin Film for End-Point Detector(EPD) of Spin Etcher Using the White Light Interferometry

Kim ,  No-Hyu ,  Chang 외 3명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2002 .01

Effects of Feed Gas Chemistry on Sf6 Based Tungsten Etching in a Helicon Etcher

정중택 ,  조윤석 ,  오진성 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

ETCH CHARACTERISTICS OF GaAs / AlGaAs HETERO-STRUCTURE USING BIAS-ECR ETCHER

S. H. Pa ,  k ,  J. J. Lee 외 4명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

12" 웨이퍼 Spin etcher용 실시간 박막두께 측정장치의 개발

김노유 ,  서학석

한국반도체장비학회지

2003 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  한승수

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11