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Oxide Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 변수가 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Parameters on Etch Characteristics in ECR Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
ICP etcher에서의 high conductance 최적화와 SiO₂ 식각 모델링
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2010 .05
Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Dry Etcher 기술개발 동향과 발전
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
대한전자공학회 학술대회
2014 .06
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Vibration Reduction of Spin Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
수직형 식각 장비의 노즐 분사 시스템에 대한 연구
반도체디스플레이기술학회지
2011 .01
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
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