Characterization of Via Etching in CHF₃/CF₄ Magnetically Enhanced Reactive Ion Etching Using Neural Networks

Sung Ku Kwon ,  Kwang Ho Kwon ,  Byung Whan Kim 외 6명

[ETRI] ETRI Journal

2002 .06

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

Oxide Etcher

신태호

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher

강창진 ,  최창원 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher

정상섭 ,  신철호 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석

강정원 ,  이동현 ,  김재정

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  한승수

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon의 Deep Groove Etching

박성호 ,  전영진 ,  박신종

대한전자공학회 학술대회

1985 .06

Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon 의 Deep Groove Etching ( Deep Groove Etching of Silicon by Reactive Ion Etching )

박성호 ,  전영진 ,  박신종

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

Dry Etcher 기술개발 동향과 발전

문주태

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

평판형 반응성 이온 식각기의 설계변수 분석 ( Design Parameter Analysis for a Planar Type Reactive Ion Etcher )

강봉구 ,  박성호 ,  전영진

전자공학회논문지

1989 .11

Reactive Ion Etching 된 단일층 그래핀의 표면특성 분석

손영준 ,  전경용 ,  한창수

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2014 .10

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Vibration Reduction of Spin Etcher

Rim ,  Kyung-Hwa ,  Lee 외 3명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2002 .01

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )

윤창식 ,  이종근 ,  김택수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

Engineering of Bi-/Mono-layer Graphene Film Using Reactive Ion Etching

M. I ,  annejad ,  W. Alyalak 외 6명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2015 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  노호택 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2014 .06