Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Helicon 고밀도 플라즈마를 이용한 0.5mm 이하의 텅스텐 식각 공정 연구 ( Helicon High Density Plasma Etching for Sub-Half Micron Tungsten Interconnections )

이승욱 ,  최창주 ,  설여송 외 1명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

Oxide Etcher

신태호

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher

강창진 ,  최창원 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma

Seoung Wook Lee ,  Chang Ju Choi ,  Yeo Song Seol 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

A Study on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride Using SF6 Plasma

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  한승수

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher

정상섭 ,  신철호 ,  민경진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석

강정원 ,  이동현 ,  김재정

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA

Kwon ,  O.Sung ,  Choi 외 7명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si 건식 식각 시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구

김동일 ,  노호택 ,  한승수

대한전자공학회 학술대회

2014 .06

Dry Etcher 기술개발 동향과 발전

문주태

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2008 .01

SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선

권순일 ,  양계준 ,  송우창 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Estimation of tungsten tip by electrochemical etching

Duy-Cuong Le ,  Huyn-Chul Kim

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성

김태영 ,  정기형 ,  이승학 외 1명

한국표면공학회지

1994 .12

SF6 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성 이온식각에 관한 실험적 연구 ( Experimental Study of Reactive Ion Etching of Tungsten Films Using SF6 Plasma )

박상규 ,  서성우 ,  이시우

전자공학회논문지-A

1993 .07

Vibration Reduction of Spin Etcher

Rim ,  Kyung-Hwa ,  Lee 외 3명

한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회

2002 .01

BCl3/SF6 gas chemistries 에 의한 TiW막의 식각특성 연구 ( A Study on the Etching Characteristics of TiW Films using BCl3/SF6 gas chemistries )

권광호 ,  김창일 ,  윤선진 외 3명

전자공학회논문지-D

1997 .03

Fault Detection of Plasma Etchers using Big Data Analysis

Wei Qin ,  Jungang Yang ,  Jie Zhang

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2014 .09