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김정태

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김정태 (에이디피엔지니어링)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2008년도 춘계학술대회

발행연도: 2008.1

수록면: 23 - 29 (7page)

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- High Density Plasma Source-CCP-Dual/Triple, RF Frequency Control - Radical/Flux Analysis - Low Pressure Process - Chamber Design (Process gap/Wall gap) - Chamber Temp. Control. - ESC Dielectric Materials - Uniform Gas Injection

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주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전기공학

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