100㎚ 이하의 CMOS 소자를 위한 Ni Silicide Technology

이헌진 ,  지희환 ,  배미숙 외 6명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

CMOS소자를 위한 Ni Silicide의 Dopant에 따른 영향분석

배미숙 ,  지희환 ,  이헌진 외 6명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

Nano CMOS 소자를 위한 Ni-silicide의 Dopant 의존성 분석

배미숙 ,  지희환 ,  이헌진 외 5명

전자공학회논문지-SD

2003 .11

Si 기판에 주입된 BF2불순물이 Ti Silicides 형성에 미치는 영향 ( Effects of Implanted BF2 on the Formation of Ti-Silicides )

최석훈 ,  최진석 ,  백수현

전자공학회논문지

1990 .12

Cobalt Interlayer 와 TiN capping를 갖는 새로운 구조의 Ni-Silicide 및 Nano CMOS에의 응용

오순영 ,  윤장근 ,  박영호 외 4명

전자공학회논문지-SD

2003 .12

Study of Thermal Stability of Ni Silicide using Ni-V Alloy

Zhun Zhong ,  Soon-Young Oh ,  Won-Jae Lee 외 7명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2008 .01

Thermal Stability Improvement of the Ni Germano-silicide formed by a novel structure Ni/Co/TiN using 2-step RTP for Nano-Scale CMOS Technology

Bin-Feng Huang ,  Soon-Young Oh ,  Jang-Gn Yun 외 8명

대한전자공학회 학술대회

2004 .06

니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구

김상엽 ,  송오성

한국재료학회지

2007 .01

나노급 CMOSFET을 위한 Boron Cluster(B18H22)가 이온 주입된(SOI 및 Bulk)기판에 Ni-V합금을 이용한 Ni-silicide의열안정성 개선

이세광 ,  이원재 ,  장잉잉 외 5명

전기전자재료학회논문지

2007 .01

희토류 금속을 이용한 니켈 실리사이드의 전기 및 물리적 특성

이원재 ,  김도우 ,  김용진 외 2명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Nano-scale CMOS를 위한 Ni-germano Silicide의 열 안정성 연구

황빈봉 ,  윤장근 ,  김용구 외 5명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Ni/Co/Ni를 적용한 Ni germano-silicide의 열 안정성 개선

황빈봉 ,  지희환 ,  오순영 외 6명

대한전자공학회 학술대회

2003 .07

0.1μm이하 Nano-PMOS를 위한 Ni-silicide에서 capping layer의 효과

이헌진 ,  지희완 ,  배미숙 외 5명

대한전자공학회 학술대회

2002 .11

루테늄 첨가에 의한 니켈모노실리사이드의 안정화

윤기정 ,  송오성 ,  김종률 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

Formation Temperature Dependence of Thermal Stability of Nickel Silicide with Ni-V Alloy for Nanoscale MOSFETs

A. Tuya ,  S. Y. Oh ,  J. G. Yun 외 6명

대한전자공학회 학술대회

2005 .11

고성능 PMOSFET을 위한 Ni-silicide와 p+ Source/drain 사이의 Barrier Height 감소

공선규 ,  장잉잉 ,  박기영 외 6명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

Co/Ni 복합실리사이드의 메탈 콘택 건식식각 안정성 연구

송오성 ,  범성진 ,  김득중

한국재료학회지

2004 .01

나노급 CMOSFET을 위한 니켈-코발트 합금을 이용한니켈-실리사이드의 열안정성 개선

박기영 ,  정순연 ,  한인식 외 6명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

고효율 태양전지의 저가화를 위한 Ni/Cu/Ag 전극의 Ni Silicide 형성에 관한 연구

김종민 ,  조경연 ,  이지훈 외 1명

한국태양에너지학회 학술대회논문집

2009 .04

Si 기판에 주입된 Boron , BF2이온이 RTP법에 의한 Titanium-Silicides 형성에 미치는 영향 ( Effects of Boron , BF2 ions Si Substrates for the Titanium-Silicides formation vy RTP method )

최석훈 ,  최진석 ,  백수현

대한전자공학회 학술대회

1989 .11