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In-situ MOCVD Cu/MOCVD TiN 형성 공정에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
공기 중에 노출된 MOCVD TiN 기판이 MOCVD Cu 증착에 미치는 효과
한국재료학회지
2000 .01
Carrier gas$(N_2,\;He)$가 MOCVD TiN 형성에 미치는 영향에 관한 연구
한국재료학회지
1996 .01
MOCVD TiN FOR HIGH TEMPERATURE PROCESS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
후공정 처리에 의한 MOCVD TiN 막질 개선
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
TiN의 Cu 확산 방지막 특성
한국재료학회 학술발표대회
1995 .01
Properties and Diffusion Barrier Performance of MOCVD TiN Films
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Cu 배선공정을 위한 MOCVD-TaN 확산방지막의 개발
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
The Effect of Density and Microstructure on the Performance of TiN Barrier Films in Cu Metallization
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Cu 배선공정에서 CVD-TiN 박막의 확산방지막 특성
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
TDEAT와 $\textrm{NH}_3$ 예비혼합 처리가 MOCVD TiN형성에 미치는 영향
한국재료학회지
1997 .01
Cu 배선 공정에서 Al 중간층을 이용한 CVD-TiN 확산 방지막의 성능 향상
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Effects of Post-Annealing on the Characteristics of MOCVD-Cu / TiN / Si Structures by the Rapid Thermal Process
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
O₃-MOCVD법에 의한 대면적 Tin Oxide 박막의 전기적, 광학적 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .11
EFFECT OF VACUUM ANNEALING OF MOCVD TiN ON THE DIFFUSION BARRIER PROPERTY
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
TiN의 충진처리가 확산방지막 특성에 미치는 영향(II) : Cu/TiN/Si 구조
한국재료학회지
1995 .01
Growth Behavior of MOCVD-Cu on TiN Substrates Using Direct Liquid Injection Method
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
TiN확산 방지막에 대한 Cu-alloy(Mg)특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
MOCVD 방식으로 증착한 Cu 박막의 Electronmigration 특성
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
Selectivities of MOCVD -Cu Films on Different Substrate
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
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