미세 패턴 형성을 위한 위상 반전 마스크 연구 ( Alternating Phase Shift Mask for Sub-0.25 mm Lithography )

김희범 ,  안창남 ,  백기호

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

DUV Iithography용 새로운 반사방지막 연구 ( Study on Characteristics of Ge Based ARL for DUV Lithography )

김용범 ,  김동완 ,  강호영 외 2명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

DUV 리소그라피공정에서 $TiO_x$ 박막의 무반사층으로의 응용성

전병혁 ,  한상수 ,  김경섭 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Negative Molecular Resists with Calixarene Derivatives for DUV Lithography

박지영 ,  김진백 ,  구세진

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Improved Electron-Beam / DUV Intra-Level Mix-and-Match as a Production Viable Lithography with 100-nm Resolution

S. Magoshi ,  H. Niiyama ,  S. Sato 외 10명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Optical Lithography at Low K Factors

Ha ,  y Sewell

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

OPC Methodology to Overcome Mask Error Effect on Below 0.25mm Lithography Generation

Kee Ho Kim ,  S ,  i 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

DUV레이저를 이용한 고감도 검사 설비의 Defect Error 현상에 대한 연구

강성호 ,  이용대 ,  임권 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2012 .06

Synthesis and application of the hybrid mask for soft - lithography

천재은 ,  이현정

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

나노/마이크로 복합 금형 제작을 위한 소프트 마스크 위상 이동 리소그래피 공정 기술 연구

김지원 ,  조상욱 ,  이태호 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .05

Illumination Condition and Mask Bias for 0.18 mm Pattern with KrF Lithography

H. Tabuchi ,  Y. Shichijo ,  I. Okabe 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

상변화 마스크를 이용한 나노 리소그래피에 관한 연구

성중현 ,  김민수 ,  정명기 외 1명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2018 .05

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

APPLICATION OF ATTENUATED PHASE SHIFT MASK ON LINES AND SPACES PATTERNS

Chang Nam Ahn ,  Hung Eil Kim ,  Ik Boum Hu 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Enhancement of Alignment Accuracy with a Novel X-ray Mask in Mix-and-Match of Optical and X-ray Lithography

최상수 ,  전영진 ,  Enzo Di Fab 외 6명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

157nm 광리소그래피 위상변위 마스크용 Si-O-N-F 박막의 특성연구

김성관 ,  김형도 ,  김정민 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

DUV와 열의 하이브리드 저온 용액공정에 의해 형성된 Al2O3 게이트 절연막 연구

장현규 ,  김원근 ,  오민석 외 1명

전기전자재료학회논문지

2020 .01

Aerial Image intensity Profile Study for Phase Shift Mask

Y. S. Kim ,  Y. M. Ham ,  H. K. Oh 외 3명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01