New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong; Dave Markle

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: Hwan J. Jeong Dave Markle

저널정보: 대한전자공학회 대한전자공학회 워크샵 대한전자공학회 워크샵(Advanced and Future Microelectronics Workshop - Advanced Lithography)

발행연도: 1991.1

수록면: 141 - 181 (41page)

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Hwan J. Jeong

소속기관 대한전자공학회

주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 전자공학

논문수 1 이용수 13

Dave Markle

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UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-569-013227419

구분	그룹	데이터 항목
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대량 구매용 데이터	B2B 구독 방식	특정 자료 한정으로 원문 접근 권한 부여
대량 구매용 데이터	URL 전달 방식	바로 PDF 뷰어를 열람할 수 있는 URL 제공

구분	그룹	데이터 항목
AI 학습용 데이터	기본 메타	발행기관명, 간행물명, 권호명, 권(vol), 호(issue), 통권, 발행연도, 발행월, 논문명, 저자명, 시작페이지, 종료페이지, 전체페이지, 상세페이지URL
상세 메타 데이터	발행기관 메타	발행기관 이명, 영문명, 창립연도, 홈페이지URL, 발행기관 소개
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	논문 메타	작성 언어, 부제목, 대등제목, 목차, 키워드, 초록, 이미지, 참고문헌, 이용수, 피인용수, 논문활용도, DBpia통합주제분류, KDC분류, DDC분류, 한국연구재단분류, UCI, DOI
	저자 메타	소속기관, 소속부서, 직급, 연구분야, 연구키워드, 이용수, 피인용수, 저자 논문활용도

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