Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

DUV Iithography용 새로운 반사방지막 연구 ( Study on Characteristics of Ge Based ARL for DUV Lithography )

김용범 ,  김동완 ,  강호영 외 2명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

DUV 리소그라피공정에서 $TiO_x$ 박막의 무반사층으로의 응용성

전병혁 ,  한상수 ,  김경섭 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

0.12 mm Optical Lithography Performances Using an Alternating DUV Phase Shift Mask

Y. T ,  ouille ,  N. Buffet 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Negative Molecular Resists with Calixarene Derivatives for DUV Lithography

박지영 ,  김진백 ,  구세진

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Chemically Amplified photoresists for 248 nm based on derivated phenolic resins

전현표 ,  김기대 ,  박주현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Silicon Containing Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

Young Dae Kim ,  Sang Jin Pa ,  k 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Improved Electron-Beam / DUV Intra-Level Mix-and-Match as a Production Viable Lithography with 100-nm Resolution

S. Magoshi ,  H. Niiyama ,  S. Sato 외 10명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

The Investingation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist

김정훈 ,  안성일 ,  김재현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Properties of Chemically Amplified Photoresist Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .10