DUV Iithography용 새로운 반사방지막 연구 ( Study on Characteristics of Ge Based ARL for DUV Lithography )

김용범 ,  김동완 ,  강호영 외 2명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

DUV 리소그라피공정에서 $TiO_x$ 박막의 무반사층으로의 응용성

전병혁 ,  한상수 ,  김경섭 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

0.12 mm Optical Lithography Performances Using an Alternating DUV Phase Shift Mask

Y. T ,  ouille ,  N. Buffet 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Improved Electron-Beam / DUV Intra-Level Mix-and-Match as a Production Viable Lithography with 100-nm Resolution

S. Magoshi ,  H. Niiyama ,  S. Sato 외 10명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Calixarenes on Gold Surgaces

김종승

고분자 과학과 기술

2012 .02

DUV레이저를 이용한 고감도 검사 설비의 Defect Error 현상에 대한 연구

강성호 ,  이용대 ,  임권 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2012 .06

ADVANCED LITHOGRAPHY

Tsuneo Te ,  asawa

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Synthesis of Methacrylate-based Polymers with Ethyl-4-Methyl-2-Diazo-3-Oxo-Pentenoate and their Application as DUV Resists

김진백 ,  김경선

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

Newly Designed Resists Based on Acrylated Structure for 193 nm Lithography

김영대 ,  박상진 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Sub-10-nm EB Lithography Using Poly ( α-methylstyrene ) Resist of Molecular Weight 650

S. Manako ,  J. Fujita ,  K. Tanigaki 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

DUV와 열의 하이브리드 저온 용액공정에 의해 형성된 Al2O3 게이트 절연막 연구

장현규 ,  김원근 ,  오민석 외 1명

전기전자재료학회논문지

2020 .01

Lithography 기술과 Trend에 대한 고찰

조한구

전자공학회지

2001 .08

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Resist Development Process for Sub-0.15 mm Lithography by KrF Imaging

K. Matsunaga ,  D. Kawamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New Developments in 1 : 1 Optical Lithography

Hwan J. Jeong ,  Dave Ma ,  kle

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

Resist 표면 거칠기 예측을 위한 전자빔 리소그라피 시뮬레이션에 관한 연구

김학 ,  한창호 ,  이기용 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography

정선화 ,  조경천 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .10