0.12 mm Optical Lithography Performances Using an Alternating DUV Phase Shift Mask

Y. T ,  ouille ,  N. Buffet 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

변형조명계와 감쇠형 위상반전마스크 ( Attenuated Phase Shifting Mask ) 를 조합한 Sub-Quarter Micron Contact Hole 패턴의 형성

계종욱 ,  김형준 ,  우상균 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

위상천이 네트워크를 사용한 X-마스크 기법

송동섭 ,  강성호

전자공학회논문지-SD

2007 .02

나노/마이크로 복합 금형 제작을 위한 소프트 마스크 위상 이동 리소그래피 공정 기술 연구

김지원 ,  조상욱 ,  이태호 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .05

상변화 마스크를 이용한 나노 리소그래피에 관한 연구

성중현 ,  김민수 ,  정명기 외 1명

한국소성가공학회 학술대회 논문집

2018 .05

157nm 광리소그래피 위상변위 마스크용 Si-O-N-F 박막의 특성연구

김성관 ,  김형도 ,  김정민 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

레이저를 이용한 집적광학용 미세패턴 형성기술 개발 ( A mask fabrication method for intergrated optics using laser lithography )

강원구 ,  신상영 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

레이저를 이용한 집적광학용 미세패턴 형성기술 개발

강원구 ,  신상영 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1986 .12

미해상회절 마스크 광리소그래피를 이용한 T-형 패턴 게이트 형성기술

박병선 ,  오용호 ,  양전욱 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

유연한 미세 패턴 제작을 위한 마스크의 기계가공법

진원혁 ,  김대은

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

1998 .11

위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15 ㎛ T-형 게이트 형성방법

박병선 ,  김일광 ,  이진희 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

OPC Methodology to Overcome Mask Error Effect on Below 0.25mm Lithography Generation

Kee Ho Kim ,  S ,  i 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

선형편광과 위상마스크를 이용한 광 암호화

배효욱 ,  서동환 ,  신창목 외 3명

한국통신학회 기타 간행물

2001 .10

Synthesis and application of the hybrid mask for soft - lithography

천재은 ,  이현정

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

랜덤 위상 마스크를 이용한 광 메모리에서의 암호화 특성

최진산 ,  양병춘 ,  이병호

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

롤타입 마스크를 이용한 연속 포토리소그래피 기술과 그 응용

곽문규

대한기계학회 논문집 B권

2012 .10

위상마스크를 사용하는 동시위상천이 간섭계의 위상천이 값 측정 및 보정방법

이동원 ,  김재완 ,  한재원 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .05

미해상회절 마스크 광리소그레피를 이용한 T-형 패턴 게이트 형성기술 ( T-shaped Gate Metal Formation by using Optical Lithography Technique with Dummy Diffraction Mask )

박병선 ,  오용호 ,  양전욱 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

마스크 데이타 처리 프로그램의 개발 ( Development of a Mask Data Processing Program )

정자춘 ,  이철동 ,  유영욱

한국통신학회 학술대회논문집

1988 .01

Illumination Condition and Mask Bias for 0.18 mm Pattern with KrF Lithography

H. Tabuchi ,  Y. Shichijo ,  I. Okabe 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01