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낮은 GWP를 가지는 Fluorocarbon 이성체에 따른 HARC 식각 특성 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2024 .10
Optimization of Plasma Atomic Layer Etch Process for Silicon Carbide
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2018 .10
코로나 방전 플라즈마에 의한 NOx제거에서 NaOH 수용액의 영향
전기전자재료학회논문지
2023 .03
Low GWP 가스 저온 ICP 식각 공정 표면 분석
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2024 .10
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Generation and Applications of Radicals and Ions with Plasmas in Etching Processes of Semiconductor Device Fabrication
대한기계학회 춘추학술대회
2022 .11
이온 빔을 이용한 Chrome 원자층 식각 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2019 .05
A review : atomic layer etching of metals
한국표면공학회지
2024 .06
타원계측장치를 이용한 실시간 원자층 식각률 모니터링에서 기판 온도의 영향
반도체디스플레이기술학회지
2019 .01
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
건식 식각 공정 쿼츠의 제작방식에 따른 부품 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2021 .11
대기압 플라즈마를 이용한 Si 계 소재 식각 특성
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2016 .10
[인터뷰 ➋] 코플랜드 독립법인 출범… 한국코플랜드(주) 콜드체인사업부 동북아 담당 곽병권 상무_“앞으로 탈탄소 위해 Low GWP에서 GWP 0나 자연냉매로의 전환 필요하다
냉동공조저널
2023 .07
SIMS를 이용한 SiO₂/PSG/SiO₂/Al-1%Si 및 SiO₂/TEOS/SiO₂/Al-1%Si 적층 박막내의 Na 게터링 분석
한국표면공학회지
2018 .04
RF Plasma Processes Monitoring for Fluorocarbon Polluted Plasma Chamber Cleaning by Optical Emission Spectroscopy and Multivariate Analysis
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Area-Selective Atomic Layer Deposition and Atomic Layer Etching for 3-D Nano-Patterning Processes
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2017 .11
저온 Atomic Layer Deposition을 이용한 SiO₂ 박막의 Perovskite solar cells 적용
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2023 .11
SiO₂ bottom-up trench fill of a high aspect ratio hole by plasma enhanced atomic layer deposition using a very high frequency plasmas and inhibitor surface treatment
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2022 .06
유한요소해석을 통한 Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 장비 유동 가시화 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2020 .07
데이터 기반 접근을 통한 불화탄소 플라즈마 공정의 화학 종 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2024 .07
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