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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2015.11
- 수록면
- 242 - 243 (2page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (7)
2013
Plasma Impedance Monitoring with Real-time Cluster Analysis for RF Plasma Etching Endpoint Detection of Dielectric Layers
장해규
,
채희엽
한국진공학회 학술발표회초록집
2013.08
학술대회자료
Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis
장해규
,
남재욱
,
채희엽
한국진공학회 학술발표회초록집
2013.02
학술대회자료
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2024 .10
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2019 .04
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2019 .04
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2019 .04
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2017 .01
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이호녕
,
장해규
,
이학승
외 1명
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2015
.02
Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis
장해규
,
남재욱
,
채희엽
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2013
.02
In-situ Endpoint Detection for Dielectric Films Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring and Self-plasma Optical Emission Spectroscopy with Modified Principal Component Analysis
장해규
,
채희엽
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2012
.08
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