지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
초록· 키워드
오류제보하기
$Cl_2/Ar$ 가스의 고밀도 플라즈마를 이용하여 ZnO 박막에 대한 식각이 연구되었다. $Cl_2$ 가스의 농도, coil rf power, dc-bias 전압, 그리고 공정 압력을 변화시켜서 ZnO 박막의 식각특성을 체계적으로 조사하였다. $Cl_2$ 가스의 농도가 증가할수록 ZnO 박막의 식각 속도는 증가하였고, 식각된 패턴 주변의 재증착은 감소되었지만 식각된 패턴의 측면 경사는 낮아졌다. Coil rf power와 dc-bias 전압이 증가할수록 ZnO 박막의 식각 속도가 증가하였고, 식각 프로파일이 개선되었다. 공정 압력이 증가 할수록 ZnO 박막의 식각 속도가 미세하게 증가하였으나 식각 프로파일의 변화는 관찰되지 않았다. 이러한 결과들을 토대로 하여 ZnO 박막의 최적의 식각 조건이 설정되었다. 재증착이나 잔류물이 없이 대략 $75^{\circ}{\sim}80^{\circ}$의 높은 이방성 식각을 갖는 ZnO 박막의 식각이 20% $Cl_2$ 가스의 농도, 1000 W의 coil rf power, 400 V의 dc-bias 전압, 그리고 5 mTorr의 공정 압력에서 성공적으로 이루어졌다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
-
Plasma and Reactive Ion Etching
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
-
Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
-
Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
-
Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
-
Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2007 .01
-
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
-
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
-
유도결합플라즈마를 이용한 O2/BCl3/Ar가스에 따른 Indium Tin Oxide 박막의 식각 특성 연구
전기전자재료학회논문지
2010 .01
-
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
-
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
-
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2018 .10
-
플라즈마 화학증착한 aluminum oxide의 reactive ion etching 특성
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
-
Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
-
Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2010 .01
-
Model based analysis of etching mechanism of HfO₂ films in inductively coupled CF₄/O₂/Ar and CHF₃/O₂/Ar plasma for dielectric mask
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
-
Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
-
Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .10
-
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
-
Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0