유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

ICP 에 의한 Pt 박막의 식각 메카니즘에 관한 연구 ( The Study on the etching mechanism of Pt thin film by inductive Coupled plasma )

권광호 ,  김창일 ,  윤선진 외 2명

전자공학회논문지-D

1997 .06

유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  장제욱 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1998 .05

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성

라상호 ,  박세근 ,  오범환

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성

김미숙 ,  정창현 ,  임종태 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency

김태형 ,  김경남 ,  이승민 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching

S. Hayashi ,  M. Yamanaka ,  M. Kubota 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Surface Modification Cr Plated SS316L by Inductively Coupled Plasma Nitriding

Dong Hoon Han ,  Won Hyuk Hong ,  Boh Wan Pak 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )

유재흥 ,  김남훈 ,  장의구 외 1명

전자공학회논문지-SD

2000 .07