Model-Based Analysis of the ZrO2 Etching Mechanism in Inductively Coupled BCl3/Ar and BCl3/CHF3/Ar Plasmas

Mansu Kim ,  Nam-Ki Min ,  Sun Jin Yun 외 5명

[ETRI] ETRI Journal

2008 .06

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막의 식각

金瓘河 ,  金徑兌 ,  金宗奎 외 3명

전기학회논문지

2007 .02

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

禹鍾昌 ,  金瓘河 ,  金徑兌 외 3명

전기학회논문지

2007 .03

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma

Xeng Yang ,  우종창 ,  Doo-Seung Um 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막 식각

김관하 ,  김경태 ,  김종규 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .10

Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Jung-Soo Pa ,  k 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 반응성 이온들에 의해 식각된 ZnO 박막 표면 연구

우종창 ,  김창일

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas

이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma

Jong-Chang Woo ,  주영희 ,  Jung-Soo Pa 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

BCl3/Ne 혼합가스를 이용한 III-V 반도체의 고밀도 유도결합 플라즈마 식각

임완태 ,  조관식 ,  백인규 외 1명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

Plasma and Reactive Ion Etching

전영진

대한전자공학회 단기강좌

1983 .01

유도결합플라즈마를 이용한 O2/BCl3/Ar가스에 따른 Indium Tin Oxide 박막의 식각 특성 연구

위재형 ,  우종창 ,  김창일

전기전자재료학회논문지

2010 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성

엄두승 ,  강찬민 ,  양설 외 2명

한국표면공학회지

2008 .06

Effect of $O_2$ or $NF_3$ plasma treatments on contaminated silicon surface due to $CHF_{3}/C_{2}F_{6}$ reactive ion etching

박형호 ,  권광호 ,  곽병화 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas

Pa ,  k ,  Sang-Duk 외 10명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2002 .01

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

BCl 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각

조관식 ,  임완태 ,  백인규 외 2명

한국재료학회지

2003 .01