Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

The Effect of Substrate Heating Technique for Selective Etching in Pulse-biased Inductively Coupled Plasma

Kyung Chae Yang ,  Min Hwan Jeon ,  Geun Young Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Jung-Soo Pa ,  k 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성

라상호 ,  박세근 ,  오범환

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma

Jong-Chang Woo ,  주영희 ,  Jung-Soo Pa 외 2명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01