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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.10
- 수록면
- 76 - 76 (1page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (2)
2006
Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask
D. Y. Kim
,
J. H. Ko
,
M. S. Pa
외 2명
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006.10
학술대회자료
Infinitely high etch selectivity of indium tin oxide (ITO) layer to photoresist during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching
D. Y. Kim
,
J. H. Ko
,
M. S. Pa
외 2명
한국진공학회 학술발표회초록집
2006.08
학술대회자료
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목차
1. Introduction
2. Main subject
3. Conclusion
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