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이용수
Abstract
서론
본론
실험결과
결론
참고문헌
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C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
자화주파수에 따른 플라즈마 및 산화막식각특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) System에서 자장이 플라즈마와 PR 식각특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성
공업화학
2007 .01
Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
자장 강화된 유도결합형 플라즈마 특성 및 광도파로형 산화막 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2018 .10
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