The Effect of Substrate Heating Technique for Selective Etching in Pulse-biased Inductively Coupled Plasma

Kyung Chae Yang ,  Min Hwan Jeon ,  Geun Young Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Cl/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

민수련 ,  이장우 ,  조한나 외 1명

공업화학

2007 .01

XPS Analysis of Oxide Etch Polymer in Inductively Coupled High Density Plasmas

Pa ,  k ,  Jae-Hyun 외 6명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma

우종창 ,  Gwan-Ha Kim ,  Dong-Pyo Kim 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2007 .01

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

CH₄ 플라즈마에 따른 TiN 박막 표면의 식각특성 연구

우종창 ,  엄두승 ,  김관하 외 2명

한국표면공학회지

2008 .10

Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask

D. Y. Kim ,  J. H. Ko ,  M. S. Pa 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma

신경섭 ,  강창진 ,  정철 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching

S. Hayashi ,  M. Yamanaka ,  M. Kubota 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2020 .07

Etching characteristics of Al-Nd alloy thin films using magnetized inductively coupled plasma

Y.J. Lee ,  H.R. Han ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency

김태형 ,  김경남 ,  이승민 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성

김미숙 ,  정창현 ,  임종태 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar/CH₄ 플라즈마의 특성 분석

차주홍 ,  이호준

전기학회논문지

2016 .08