Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

A Study on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride Using SF6 Plasma

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) System에서 자장이 플라즈마와 PR 식각특성에 미치는 영향

김경남 ,  이영준 ,  경세진 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2003 .05

A Research on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride for X-Ray Mask

H. G. Lee ,  C. Y. Jeong ,  S. Y. Lee 외 6명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향

오창권 ,  김경남 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .05

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas

이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성

박준용 ,  김정식 ,  김현수 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .05

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

Surface Modification Cr Plated SS316L by Inductively Coupled Plasma Nitriding

Dong Hoon Han ,  Won Hyuk Hong ,  Boh Wan Pak 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )

이희습 ,  이종근 ,  정형섭 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1996 .07

Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Jung-Soo Pa ,  k 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

CH₄/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구

엄두승 ,  허경무 ,  박정수 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각

송호영 ,  조수범 ,  이종근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성

이영식 ,  나선웅 ,  이내응 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2003 .05

펄스 플라즈마를 이용한 식각

양경채 ,  김수강 ,  신예지 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .11

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01