유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Cl/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 NiFe, NiFeCo, Ta의 건식식각

라현욱 ,  박형조 ,  김기주 외 2명

화학공학

2005 .01

유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성

박준용 ,  김정식 ,  김현수 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .05

Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )

유재흥 ,  김남훈 ,  장의구 외 1명

전자공학회논문지-SD

2000 .07

유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  이재원 ,  김태일 외 1명

한국표면공학회지

1999 .04

CH₄/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구

엄두승 ,  허경무 ,  박정수 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

$SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 ICP 식각 특성

한윤봉 ,  박진수 ,  임연호 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

Cl₂ 유도결합 플라즈마를 이용한 SBT 박막의 식각특성

金東杓 ,  金昌日

전기학회논문지 C

2001 .05

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

ETCH CHARACTERISTICS OF FERROELECTRIC SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$ THIN FILMS IN AN INDUCTIVELY COUPLED PLASMA

Chung ,  Chee-Won ,  Kim 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

B-TA 기술

이창범

한국통신학회 워크샵

1995 .01

${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성

이용혁 ,  김현수 ,  권용성 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

유도결합형 플라즈마에서 압력에 따른 Ar Gas의 특성분석

조주웅 ,  이영환 ,  허인성 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .07

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

염소 플라즈마를 이용한 탄탈륨 미세패턴 식각특성

우상균 ,  김상훈 ,  주섭열 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

金文永 ,  白榮植 ,  太興植 외 3명

전기학회논문지 C

1999 .09

유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  장제욱 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1998 .05

SF₆/Ar 가스 플라즈마에 의한 SrBi₂Ta₂O₉ 박막의 식각 메커니즘 연구

김동표 ,  서정우 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

유도 결합형 열 플라즈마의 특성 연구

신홍민 ,  최경철 ,  김원규 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1991 .11