A Study on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride Using SF6 Plasma

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

ICP ETCHING OF TUNGSTEN FOR X-RAY MASKS

C. Jeong ,  K. Song ,  C. Pa 외 4명

한국표면공학회지

1996 .12

Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

X-선 마스크 제작을 위한 텅스텐 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Estimation of tungsten tip by electrochemical etching

Duy-Cuong Le ,  Huyn-Chul Kim

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA

Kwon ,  O.Sung ,  Choi 외 7명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

Anisotropic Etching Property on Porous Silicon Formation

유인식 ,  박기율 ,  심준환 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

Use of Hard Mask for Finer (<10 μm) Through Silicon Vias (TSVs) Etching

홍상진 ,  최소망

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2015 .01

Reactive Sputtering 법으로 제조된 Tungsten Nitride 박막의 열적 안정성 및 전기저항

이기선 ,  이병학 ,  손동균

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

전기화학적 에칭에 의한 AFM용 텅스텐 탐침의 강성 제어

한규범 ,  이승제 ,  안효석

Tribology and Lubricants

2014 .08

X-ray 마스크용 $WN_x$ 박막 증착에 관한 연구(l)

장철민 ,  최병호

한국재료학회지

1998 .01

플라즈마 증착된 Tungsten Nitride Barrier Layer에 의한 Al Spiking 억제효과 ( Suppression of Al Spiking by the Plasma Deposited Tungsten Nitride Barrier Layer )

이창우 ,  이주천 ,  김용태 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .07

플라즈마 증착된 Tungsten Nitride barrier layer에 의한 Al spiking 억제효과

이창우 ,  이주천 ,  김용태 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .06

MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA

V. P ,  emachand ,  an 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

하태경 ,  우종창 ,  김관하 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

The Fabrication Method of Tip Array by Glass Deep Dry Etching Process

박태규 ,  민정기 ,  오영택 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2011 .04

저압가스질화에서 탄소강의 초기 화합물층 형성 거동

김윤기 ,  김상권

한국표면공학회지

2011 .06

Fine Patterning of CVD Tungsten Using Various Mask Materials

J. G. Lee ,  C. H. Kang ,  J. K. Kim 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01

Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막

이기선 ,  김장현 ,  서수정 외 1명

한국재료학회지

2000 .01