TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장

김의송 ,  이종무 ,  이종길

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

화학 증착법에 의한 텅스텐 박막 ( CVD-W )

이시우 ,  김원규

전자공학회지

1988 .08

CVD 텅스텐의 부착 및 누설전류 특성에 미치는 플라즈마 전처리의 효과

이종무 ,  임영진 ,  이종길

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )

황성보 ,  최경근 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1993 .12

전처리가 CVD 텅스텐의 핵 생성에 미치는 영향

김의송 ,  이종무 ,  이종길

한국재료학회지

1992 .01

CVD Cu의 핵생성 및 성장에 관한 연구

한성희 ,  이종무

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구

전동수 ,  김선래 ,  이성영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

국내 텅스텐 대면재료 연구개발 현황

장창희 ,  한흥남 ,  김형찬

기계저널

2019 .07

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

접합층을 이용한 선택 텅스텐 화학기상증착 공정연구 ( A Study of Selective W-CVD Process Using the Glue Layer )

최경근 ,  황성보 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1992 .12

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

텅스텐 염으로부터 텅스텐 나노 분말 합성 연구

이시형 ,  구혜영 ,  하국현 외 1명

대한기계학회 춘추학술대회

2015 .04

Via Hole 매몰을 위한 선택적 CVD-W의 전처리 및 증착 Sequence 영향

배대록 ,  김영선 ,  박영욱 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

골롤의 신기술-텅스텐 코팅 골롤 사용의 성공사례

한국골판지포장공업협동조합

골판지포장,물류

2006 .01

의료 방사선사용에 따른 납과 텅스텐의 차폐효과 분석

장동근 ,  김규형 ,  박철우

한국방사선학회 논문지

2018 .01

LPCVD 방식으로 SiO₂ 위에 증착된 텅스텐 박막의 특성 분석

윤선필 ,  노관종 ,  황성민 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD

Lee ,  Sung-Hyun ,  Hong 외 20명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2005 .01

플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  이명복 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07