화학 증착법에 의한 텅스텐 박막 ( CVD-W )

이시우 ,  김원규

전자공학회지

1988 .08

플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  이명복 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07

기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구

전동수 ,  김선래 ,  이성영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

특집 : 재료의 플라즈마 표면처리 기술 ; 플라즈마 물리증착 및 화학증착 ( Plasma Assisted PVD and CVD )

전중환 ,  정재인

대한용접·접합학회지

1999 .02

CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석

이종명 ,  황철성 ,  석창길 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

초고집적 소자를 위한 화학증착 알루미늄 박막의 증착 특성에 관한 연구

김영성 ,  이경일 ,  주승기

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Cycle-CVD법으로 증착된 TiN 박막의 ALD 증착기구와 특성에 관한 연구

민재식 ,  손영웅 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향

박재현 ,  이정중 ,  금동화

한국표면공학회지

1993 .02

CVD 텅스텐의 부착 및 누설전류 특성에 미치는 플라즈마 전처리의 효과

이종무 ,  임영진 ,  이종길

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Microwave Plasma를 이용하여 증착한 diamond 박막의 증착변수에 따른 증착특성 연구

김현호 ,  김흥회 ,  국일현 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )

황성보 ,  최경근 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1993 .12

화학증착 알루미늄 박막의 표면 상태 개선에 관한 연구

김영성 ,  이경일 ,  주승기

한국표면공학회지

1993 .06

고주파플라즈마 CVD법에 의한 다이아몬드상 탄소박막의 합성

朴相鉉 ,  李德出

전기학회논문지

1990 .10

LPCVD 방식으로 SiO₂ 위에 증착된 텅스텐 박막의 특성 분석

윤선필 ,  노관종 ,  황성민 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향

민재식 ,  이원준 ,  라사균 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

플라즈마 화학증착 법에 의한 질화탄화규소의 박막증착

T.Y Eom ,  S.J. Pa ,  k 외 1명

한국에너지학회 학술발표회

2014 .11