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기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
2008 .06
플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1990 .07
화학 증착법에 의한 텅스텐 박막 ( CVD-W )
전자공학회지
1988 .08
통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )
전자공학회논문지-A
1993 .12
SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향
한국표면공학회지
1993 .02
TiN 표면 위에 텅스텐의 화학증착 ( Chemical Vapor Deposition of Tungsten on TiN Surface )
전자공학회논문지-A
1992 .04
TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
의료 방사선사용에 따른 납과 텅스텐의 차폐효과 분석
한국방사선학회 논문지
2018 .01
사일린 환원반응에 의한 텅스텐 박막의 화학증착 ( Chemical Vapor Deposition of Tungsten by Silane Reduction )
전자공학회논문지
1990 .10
갈륨비소위에 플라즈마 화학 증착한 텅스텐 박막의 특성연구 ( Properties of Tungsten Films Grown on GaAs by PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
LPCVD 방식으로 SiO2 위에 증착된 텅스텐 박막의 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
CVD 텅스텐의 부착 및 누설전류 특성에 미치는 플라즈마 전처리의 효과
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
전처리가 CVD 텅스텐의 핵생성에 미치는 효과
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
스퍼터링 방법으로 증착된 TiN층의 RTA 처리가 텅스텐 화학 기상 증착시 결함 ( defect ) 형성에 미치는 영향 ( Effects of Rapid Thermal Annealing of Sputtered TiN on Defect Formation During CVD of W )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
화학증착 알루미늄 박막의 표면 상태 개선에 관한 연구
한국표면공학회지
1993 .06
텅스텐 염으로부터 텅스텐 나노 분말 합성 연구
대한기계학회 춘추학술대회
2015 .04
접합층을 이용한 선택 텅스텐 화학기상증착 공정연구 ( A Study of Selective W-CVD Process Using the Glue Layer )
전자공학회논문지-A
1992 .12
스퍼터링으로 증착한 바나듐 텅스텐 산화물 박막의 전기화학적 거동
한국표면공학회지
1997 .04
CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
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