W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma

Seoung Wook Lee ,  Chang Ju Choi ,  Yeo Song Seol 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

CF4/O2 Gas Chemistry에 의해 식각된 Ru 박막의 표면 반응

임규태 ,  김동표 ,  김경태 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Capacitor 전극용 Ru박막의 식각 특성

이순우 ,  김상훈 ,  함동은 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2002 .01

산소 및 염소 플라즈마를 이용한 류테늄 미세패턴 식각특성

김광식 ,  이정호 ,  김현우 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

다층 RIE Electodes를 이용한 아크릴의 $O_2/N_2$ Plasma Etching

김재권 ,  박연현 ,  백인규 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

Ru(EtCp)2 전구체를 이용한 PEALD Ru 공정 최적화에 관한 연구

권세훈 ,  정영근

한국분말야금학회지

2013 .01

$(Ru_{0.8}Nb_{0.2})Sr_2(Gd_{1.5-x}Nd_xCe_{0.5})Cu_2O_z$ 계의 합성 및 초전도 특성

이호근 ,  배수민

Progress in superconductivity

2009 .01

플라즈마 원자층 증착법을 이용한 하이브리드 기능성 Ru-TiN 히터 박막의 합성 및 특성 평가

권세훈 ,  정성준 ,  정영근 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂

Jong Woo Kim ,  Mi Young Jung ,  Sung Soo Choi 외 1명

한국표면공학회지

2001 .10

Dry Etching of Cu With Cl2 Plasma and PEt3

Sung Eon Pa ,  k ,  Ki Bum Kim

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

새로운 Ru precursor를 이용하여 증착한 Ru 박막의 두께 및 산소의 박막 특성에 대한 영향분석

최종완 ,  최영민 ,  노광수

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01