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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
이정기 (인하대학교 신소재공학부) 황성진 (인하대학교 신소재공학부) 이성민 (한국 세라믹 기술원 이천분원) 김형순 (인하대학교 신소재공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회 학술발표대회 한국재료학회 2010년도 춘계학술발표대회
발행연도
2010.1
수록면
491 - 491 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2016

Plasma Etching Behavior of Rare Earth Element (Y, Gd and La) Containing Glasses, and Fabrication and Deposition Mechanism of Yttrium Oxide Coatings using Suspension Plasma Spray
이정기 ; Jungki ,  Lee 일반 2016.01 학위논문

2010

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명 한국재료학회 학술발표대회 2010.01 학술대회자료

초록· 키워드

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The particle generation during the plasma enhanced process is highly considered as serious problem in the semiconductor manufacturing industry. The material for the plasma processing chamber requires the plasma etching characteristics which are homogeneously etched surface and low plasma etching depth for preventing particulate contamination and high durability. We found that the materials without grain boundaries can prevent the particle generation. Therefore, the amorphous material with the low plasma etching rate may be the best candidate for the plasma processing chamber instead of the polycrystalline materials such as yttria and alumina. Three glasses based on $SiO_2$ and $Al_2O_3$ were prepared with various rare-earth elements (Gd, Y and La) which are same content in the glass. The glasses were plasma etched in the same condition and their plasma etching rate was compared including reference materials such as Si-wafer, quartz, yttria and alumina. The mechanical and thermal properties of the glasses were highly related with cationic field strength (CFS) of the rare-earth elements. We assumed that the plasma etching resistance may highly contributed by the thermal properties of the fluorine byproducts generated during the plasma exposure and it is expected that the Gd containing glass may have the highest plasma etching resistance due to the highest sublimation temperature of $GdF_3$ among three rare-earth elements (Gd, Y and La). However, it is found that the plasma etching results is highly related with the mechanical property of the glasses which indicates the cationic field strength. From the result, we conclude that the glass structure should be analyzed and the plasma etching test should be conducted with different condition in the future to understand the plasma etching behavior of the glasses perfectly.
#plasma etching #plasma chamber #glass #rare-earth element

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