Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂

Jong Woo Kim ,  Mi Young Jung ,  Sung Soo Choi 외 1명

한국표면공학회지

2001 .10

Reduction of reflection from PET (polyethylene terephthalate) film surface by natural plasma etching

Oh ,  Hoon ,  Song 외 3명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2006 .01

Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma

Young-Hee Joo ,  김창일 ,  우종창

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각

양설 ,  엄두승 ,  송상헌 외 2명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

DRY ETCHING TECHNOLOGY

Takafumi Tokunaga

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Cl₂ 플라즈마를 인가한 CuCl_x 성장 및 PEt₃를 이용한 CuCl_x의 식각에 대한 연구

박성언 ,  김기범

한국표면공학회지

1997 .04

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

BCl₃/Ar 플라즈마에 Cl₂ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  김동표 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Metal 게이트 전극을 위한 TiN 박막의 건식 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  박정수 외 1명

한국표면공학회지

2009 .08

Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 2명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Damage on the Surface of Zinc Oxide Thin Films Etched in Cl-based Gas Chemistry

우종창 ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Cl-based 플라즈마에 의한 YMnO3 박막의 식각 damage에 관한 연구

박재화 ,  김경태 ,  김동표 외 2명

전기전자재료학회논문지

2003 .01

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma

이종수 ,  권영세

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Effect of Process Parameters on Plasma Equipment in a Cl₂ Inductively Coupled Plasma

Sang Hee Kwon ,  Byung Whan Kim

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Etching Characteristics of YMnO3 Thin Films in Cl Based Industively Coupled Plasma

Chang-IlKim ,  Dong-PyoKim

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2003 .01