Si-SiO2 계의 N2 Plasma 처리효과에 관한 연구 ( A Study on the Effect of N2 Plasma Treatment on the Si-SiO2 System )

성영권 ,  오재하 ,  이내인 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1988 .01

Dry Etching of Cu With Cl2 Plasma and PEt3

Sung Eon Pa ,  k ,  Ki Bum Kim

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma

Young-Hee Joo ,  김창일 ,  우종창

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

Plasma Etching of SiO₂ Using Remote-type Pin-To Plate Dielectric Barrier Discharge

Jae Beom Pa ,  k ,  Se Jin Kyung 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Mechanism of SiO2 etching in fluorocarbon plasmas

조성운 ,  김창구

한국에너지학회 학술발표회

2014 .04

다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화

송오성 ,  이영민 ,  이진우

한국표면공학회지

2000 .08

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각

양설 ,  엄두승 ,  송상헌 외 2명

전기전자재료학회논문지

2009 .01

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

A High Selectivity SiO2 / Si3N4 Etching and its Applications to Self-Aligned Contact

이호준 ,  김정호 ,  김정훈 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Novel Process of SiO2 / Si Selective Etching Using New Gas System against Global Warning

M. Ho ,  i ,  M. Fujita 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Si-SiO₂系의 問題点과 研究動向

成英權

전기의세계

1985 .06

Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 2명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Damage on the Surface of Zinc Oxide Thin Films Etched in Cl-based Gas Chemistry

우종창 ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

BCl₃/Ar 플라즈마에 Cl₂ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  김동표 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Cl-based 플라즈마에 의한 YMnO3 박막의 식각 damage에 관한 연구

박재화 ,  김경태 ,  김동표 외 2명

전기전자재료학회논문지

2003 .01