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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. CMP 단위공정 연구
Ⅲ. 패턴 크기에 따른 Dishing effect
Ⅳ. 결론
참고문헌
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전자공학회논문지-D
1999 .12
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대한전자공학회 학술대회
1996 .11
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한국기계가공학회지
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대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .10
Cu-CMP에서 슬러리 첨가제에 따른 Cu와 TaN의 선택비 거동
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
Effects of Current Wave Forms and Current Densities on the Electroplated Cu Interconnection in Damascene Plating
Corrosion Science and Technology
2002 .01
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전기전자재료학회논문지
2006 .01
연마온도 제어에 따른 패드 물성 변화가 Cu CMP 성능에 미치는 영향
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1998 .06
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