Damascene 공정을 이용한 Sub-Micron 다층 Cu 배선 제작

정병훈 ,  정철환 ,  윤관기 외 7명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Sub-0.2μm 다층 금속배선 제작을 위한 Cu Dual-damascene 공정 연구 ( Studies on Cu Dual-damascene Processes for Fabrication of Sub-0.2μm Multi-level Interconnects )

채연식 ,  김동일 ,  윤관기 외 3명

전자공학회논문지-D

1999 .12

CMP를 이용한 최적화 Cu Damascene 공정 연구

尹寬基 ,  李逸炯 ,  蔡然植 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

CMP를 이용한 최적화 Cu Damascene 공정 연구 ( Studies on the Optimized CMP Processes for Cu Damascene )

윤관기 ,  이일형 ,  채연식 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Studies on Cu Damascene Processes for 1 Gbit DRAM

윤관기 ,  김동일 ,  이일형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Effects of Current Wave Forms and Current Densities on the Electroplated Cu Interconnection in Damascene Plating

YuYongLee ,  B.W.Cho ,  YoungJoonPa 외 2명

Corrosion Science and Technology

2002 .01

Damascene 공정을 이용한 Pb(Zr,Ti)O₃ 캐패시터 제조 연구

고필주 ,  이우선

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .10

Image Reversal 공정을 이용한 Sub-Micron 게이트의 제작 ( The Fabrication of a Sub-Micron Gate Using IR Processes )

이일형 ,  김상명 ,  윤관기 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

Fabrication of inorganic long micron/sub-micron tubes using fibrous polymers as templates

김영백 ,  정은선

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .04

다층 배선 구조를 갖는 Sub-Micron CMOS에서의 Contact 평탄화 기술

이상인 ,  이정규

전자공학회지

1992 .05

Sub 2-Micron CMOS 개발

최민성

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

1 Gbit급 다층 Cu 금속 배선제작에 관한 연구

김동일 ,  이일형 ,  윤관기 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

1 Gbit 급 다층 Cu 금속 배선제작에 관한 연구

金東二 ,  李逸炯 ,  尹寬基 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

Fabrication of Sub-Half Micron PMOS Device

Yeo Hwan Kim ,  Sang Jik Jwon ,  KuK Jin Chun 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .01

Quarter Micron Device 이후 동향

이경호 ,  김준희

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

반도체 소자용 구리 배선 형성을 위한 전해 도금

김명준 ,  김재정

화학공학

2014 .01

Soft-Imprint technique; sub-micron scale features fabrication

최원묵 ,  박오옥

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

RC Time Delay of the Interconnection in Sub-Quarter-Micron VLSI Circuit

장명준 ,  이희덕 ,  안재경 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

반도체 구리배선을 위한 Cu 도금층의 미세조직

홍상철 ,  김인수 ,  김인기 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01