지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
연속적 급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 특성 ( Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Films Prepared by Sequential Rapid Thermal Oxidation and Nitridation )
전자공학회논문지
1990 .05
급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 전기적 특성 ( Electrical Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Film Fomed by Rapid Theraml Processing )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
급속 열처리 공정에 의한 초박막 재산화 질화산화막의 유전 특성 ( Dielectrical Characteristics of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxides by Rapid Thermal Process )
한국통신학회논문지
1991 .11
Electrical and Physical Properties of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxide Grown by Rapid Thermal Processing
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1990 .01
산화막 및 재산화질화산화막의 MOS 캐패시터와 MOSFET의 신뢰성 ( Reliability of MOS Capacitors and MOSFET`s with Oxide and Reoxidized-Nitrided-Oxide as Gate Insulators )
전자공학회논문지-A
1993 .11
산화막 및 재산화질화산화막을 적용한 MOSFET의 성능저하 특성 ( Degradation of A MOSFET to Apply Oxide and Reoxidized-Nirided-Oxide to A Gate Dielectric )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
재산화 질화산화막의 기억트랩 분석과 프로그래밍 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
재산화된 질화 산화막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 특성 ( The Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate Dielectrics )
전자공학회논문지-A
1991 .09
ONO 박막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 전기적 특성 ( Electrical Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate-Dielectrics )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
한국표면공학회지
1996 .10
RAPID THERMAL PROCESSING CHARACTERIZATION
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
알루미늄 열처리공정을 위한 고속 열처리장치의 설계 제작 및 성능평가
전기학회논문지
1991 .10
CHARACTERISTICS OF STACKED OXIDE-NITRIDE-OXIDE FILMS FOR HIGH DENSITY DRAM CELL CAPACITOR
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
독도 화산의 화산형태 복원
한국광물학회.한국암석학회 공동학술발표회 논문집
2004 .01
저압가스질화에서 탄소강의 초기 화합물층 형성 거동
한국표면공학회지
2011 .06
급속 열처리 시스템의 개발 및 응용 ( Development and Application of Rapid Thermal Process System )
전자공학회논문지
1988 .09
급속 열처리 시스템의 개발 및 응용 ( Development & Application of rapid thermal process system )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
CHARACTERIZATION OF OXIDES FORMED ON SILICON NITRIDE SURFACES DURING HIGH TEMPERATURE FRICTION TESTS
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1997 .05
재산화된 질화 산화막의 전하 포획 특성 연구 ( A Study on the Charge Trapping Properties of ONO ( Oxide Nitride Oxide ) Dielectric Film )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구
열처리공학회지
2005 .01
0