고집적 DRAM Cell 에 대한 연구 ( The Study of High Density DRAM Cell Structure )

김달수

대한전자공학회 학술대회

1989 .01

고밀도 DRAM Cell의 새로운 구조에 관한 연구 ( A Study on New High Density DRAM Cell )

이천희

전자공학회논문지

1989 .06

ロジックとの混載に適した反轉スタックキャパシタ ( RSTC ) DRAMセル構造の提案 ( A Reserved-Stacked-Capacitor ( RSTC ) DRAM Cell Suitable for Embedded DRAM`s )

좌석목신부 ,  중촌준이 ,  굴강박 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

온도 변화에 따른 THIN OXIDE 악의 전기적 특성에 관한 연구

이앙구 ,  박성식 ,  최진석

대한전자공학회 학술대회

1986 .06

온도 변화에 따른 THIN OXIDE 막의 전기적 특성에 관한 연구 ( THE STUDY OF ELECTRIC CHARACTERISTIC ABOUT THIN OXIDE FILM AT THE VARIABLE TEMPERATURE )

최진석 ,  이앙구 ,  박성식

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

The Influence of Ion Implantation Damage on the Off-State Leakage Characteristics of n-MOSDETs with Ultrathin Oxide, Nitrided-Oxide and Re-Oxidized Nitrided-Oxide Gate Dielectrics

S. Fleische ,  P. T. Lai ,  Y. C. Cheng

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01

A STUDY ON THE EFFECTS OF OPERATING CONDITIONS OF SOLID OXIDE FUEL CELL SYSTEM ON THE STACK

Seung-Kuk Lee ,  Tae-Sung Pa ,  k 외 5명

AFORE

2017 .11

플래시 EEPROM 셀에서 ONON ( oxide-nitride-oxide-nitride ) Inter-Poly 유전체막의 신뢰성 연구 ( Study of the Reliability Characteristics of the ONON ( oxide-nitride-oxide-nitride ) Inter-Poly Dielectrics in the Flash EEPROM cells )

신봉조 ,  박근형

전자공학회논문지-D

1999 .10

ONO ( Oxide-Nitride-Oxide ) 막의 EEPROM 적용 가능성에 관한 연구 ( A Study on the Application of ONO ( Oxide-Nitride-Oxide ) Film to EEPROM as Interpoly Dielectrics )

김종우 ,  이수철 ,  전성오 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1988 .01

Analysis of Safety Performance Evaluation Results for Solid Oxide Fuel Cell Stack

Gun-Woo Oh ,  Tae-Sung Pa ,  k 외 1명

AFORE

2019 .11

A STUDY ON DEVELOPMENT OF SAFETY PERFORMANCE EVALUATION SYSTEM FOR SOLID OXIDE FUEL CELL STACK

Tae-Sung Pa ,  k ,  Tae-Ho Nam 외 3명

AFORE

2017 .11

Wet 게이트 산화막과 Nitride 산화막 소자의 특성에 관한 연구

이용희 ,  최영규 ,  류기한 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

[박사학위 논문초록] 고성능 및 저전력 3D 적층형 DRAM에 관한 연구

신호현

전자공학회지

2019 .12

DRAM 특집을 내면서

진대제

전기의세계

1989 .04

256Mbit 및 그 이후 세대 DRAM을 위한 소자분리 및 Capacitor 기술 ( Isolation and Capacitor Technologies for 256M Bit DRAMs and Beyond )

강호규

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

고집적 DRAM을 위한 새로운 셀 커패시터 ( A Novel Coated Fin Capacitor ( CFC ) for High Density DRAMs )

김영필 ,  조용수 ,  이권재 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

High Density DRAM using Prior P-Well Process

Jong Sung Pa ,  k ,  Du Heon Song 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Novel Robust Structure and High k Dielectric Material for 90 ㎚ DRAM Capacitor

Y.K. Pa ,  k ,  Y.S. Ahn 외 4명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2003 .06