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금속열처리법에 의한 재산화질화산화막 ( Reoxidized-Nitrided-Oxide Film Formed by Rapid Thermal Processing )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
연속적 급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 특성 ( Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Films Prepared by Sequential Rapid Thermal Oxidation and Nitridation )
전자공학회논문지
1990 .05
급속 열처리 공정에 의한 초박막 재산화 질화산화막의 유전 특성 ( Dielectrical Characteristics of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxides by Rapid Thermal Process )
한국통신학회논문지
1991 .11
Electrical and Physical Properties of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxide Grown by Rapid Thermal Processing
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1990 .01
산화막 및 재산화질화산화막의 MOS 캐패시터와 MOSFET의 신뢰성 ( Reliability of MOS Capacitors and MOSFET`s with Oxide and Reoxidized-Nitrided-Oxide as Gate Insulators )
전자공학회논문지-A
1993 .11
산화막 및 재산화질화산화막을 적용한 MOSFET의 성능저하 특성 ( Degradation of A MOSFET to Apply Oxide and Reoxidized-Nirided-Oxide to A Gate Dielectric )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
ONO 박막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 전기적 특성 ( Electrical Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate-Dielectrics )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
재산화된 질화 산화막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 특성 ( The Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate Dielectrics )
전자공학회논문지-A
1991 .09
재산화 질화산화막의 기억트랩 분석과 프로그래밍 특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
급속열처리 방식을 이용한 다결정 실리콘 소자의 향상된 전기적 특성 ( Improved Electrical Properties of Polysilicon TFT Using Rapid Thermal Processing )
전자공학회논문지
1990 .12
급속 열처리 공정에 의한 다결정 실리콘 박막의 전기적 , 구조적 특성 연구 ( Effects of the Rapid Thermal Annealing on the Electrical and Structural Properties of Polysilicon Films )
전자공학회논문지
1988 .09
급속 열처리 시스템의 개발 및 응용 ( Development and Application of Rapid Thermal Process System )
전자공학회논문지
1988 .09
급속 열처리 시스템의 개발 및 응용 ( Development & Application of rapid thermal process system )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
열처리 공정에 따른 산화물 박막 트랜지스터의 전기적 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2011 .07
급속열처리 공정에 의한 다결정 실리콘 박막의 전기적 , 구조적 특성연구 ( Effects of the Rapid Thermal Anneal on the Electrical and Structural Properties of Polysilicon Films )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
한국표면공학회지
1996 .10
CHARACTERISTICS OF STACKED OXIDE-NITRIDE-OXIDE FILMS FOR HIGH DENSITY DRAM CELL CAPACITOR
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1989 .01
온도 변화에 따른 THIN OXIDE 막의 전기적 특성에 관한 연구 ( THE STUDY OF ELECTRIC CHARACTERISTIC ABOUT THIN OXIDE FILM AT THE VARIABLE TEMPERATURE )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
온도 변화에 따른 THIN OXIDE 악의 전기적 특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1986 .06
Preparation and Theraml Properties of Epoxy Resins from Diaminodiphenylsulfones
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1985 .10
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