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재산화된 질화 산화막을 게이트 절연막으로 사용한 MOSFET의 특성 ( The Characteristics of MOSFET with Reoxidized Nitrided Oxide Gate Dielectrics )
전자공학회논문지-A
1991 .09
박막 게이트 산화막의 열화에 의해 나타나는 MOSFET의 특성 변화
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
산화막 및 재산화질화산화막을 적용한 MOSFET의 성능저하 특성 ( Degradation of A MOSFET to Apply Oxide and Reoxidized-Nirided-Oxide to A Gate Dielectric )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
차세대 sub-0.1μm급 MOSFET 소자용 고유전율 게이트 박막
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
산화막 및 재산화질화산화막의 MOS 캐패시터와 MOSFET의 신뢰성 ( Reliability of MOS Capacitors and MOSFET`s with Oxide and Reoxidized-Nitrided-Oxide as Gate Insulators )
전자공학회논문지-A
1993 .11
Dynamic characteristics for Double Gate MOSFET
한국정보통신학회논문지
2005 .12
Al2O3 절연막을 게이트 절연막으로 이용한 공핍형 n-채널 GaAs MOSFET의 제조 ( Fabrication of a depletion mode n-channel GaAs MOSFET using Al2O3 as a gate insulator )
전자공학회논문지-SD
2000 .01
초고속 동작을 위한 더블 게이트 MOSFET 특성 분석
한국정보통신학회논문지
2003 .04
A simulation model for reliability prediction of progressive breakdown in ultra-thin gate oxides
한국신뢰성학회 학술대회논문집
2019 .10
전력 MOSFET
전기의세계
1985 .05
전력 MOSFET용 멀티 게이트 구동 회로 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2017 .07
P-채널 MOSFET에서 게이트와 기판 전류의 시간에 따른 복원 특성
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
MOSFET에서 Gate Oxide층의 교류 절연파괴 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
An Analytical Model for the Effect of Graded Gate Oxide in MOSFET`s
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
표면 처리한 SiO₂를 게이트 절연막으로 하는 박막 트랜지스터의 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .11
I 형 게이트 내방사선 n-MOSFET 구조 설계 및 특성분석
한국정보통신학회논문지
2016 .10
이중 확산 MOSFET의 C-V특성 ( C-V Characteristics of Double diffused MOSFET )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
이중 확산 MOSFET의 C-V 특성
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
게이트전압에 따른 나노구조 이중게이트 MOSFET의 터널링전류 변화
한국정보통신학회논문지
2007 .05
전력 MOSFET 소자의 γ선 영향
제어로봇시스템학회 각 지부별 자료집
2004 .11
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