리소그라피 모의실험을 위한 전자빔용 감광막의 현상 변수 측정과 프로파일 분석 ( Development parameter measurement and profile analysis of electron beam resist for lithography simulation )

함영목 ,  이창범 ,  서태원 외 2명

전자공학회논문지-A

1996 .07

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

저에너지 전자빔 리소그라피 공정용 소형 전자빔 칼럼 개발

김진석 ,  김한수 ,  이동윤 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2011 .10

SAL 603 Resist를 사용한 변형 가우시안 전자빔 리소그라피 공정

최상수 ,  전영진

대한전자공학회 워크샵

1991 .01

저에너지 전자빔 리소그라피의 Contrast 특성 분석

김진석 ,  김한수 ,  이동윤 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2012 .05

Synthesis of Highly-Sensitive Resists Containing Photoacid generator for Electron Beam Lithography

김민정 ,  유재범 ,  이고은 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2009 .10

Sub-0.1mm Patterning Characteristics of Inorganic Resists by Focused-Ion-Beam Lithography

Seung Woo Paek ,  Soo Ho Pa ,  k 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Simple Method for Resist CD Prediction

Shuji Nakao ,  Hi ,  oshi Matsuba 외 10명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Synthesis and Application of Novel Photoacid Generator Bounding Polymer Resist for Electron Beam Lithography

강하나 ,  이해원 ,  권오정 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .04

Simulation and Edge Profiles of Chemically Amplified Resists with Highly Contrast in the Deep Submicron Range by using the Electron Beam lithography

Young Mog Ham ,  Chang Buhm Lee ,  Soo Hwan Kim 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Dry thermal development of negative electron beam resist polystyrene

Con ,  Celal ,  Abbas 외 6명

Advances in nano research

2013 .01

집속 전자 빔 장치를 활용한 금속 샘플의 표면 거칠기 측정 방안에 관한 연구

김승재 ,  장동영 ,  박만진 외 1명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2013 .05

Newly Designed Resists Based on Acrylated Structure for 193 nm Lithography

김영대 ,  박상진 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Current Status and Future of Electron Beam Lithography

백기호 ,  김영식

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

전자빔 피니싱 공정 전후의 가공표면 특성 분석

김한수 ,  김진석 ,  최경호 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2014 .05

Resist Development Process for Sub-0.15 mm Lithography by KrF Imaging

K. Matsunaga ,  D. Kawamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

전자빔 리토그래피에서 몬테카를로와 현상시뮬레이션을 이용한 3차원 리지스트프로파일 시뮬레이션 ( 3-D Resist Profile Simulation using monte-Carlo & Develop Simulation on E-beam Lithography )

서태원 ,  함영목 ,  전국진 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .11

집속이온빔 리소그라피(Focused Ion Beam Lithography)의 노출 및 현상에 대한 몬테칼로 전산 모사

이현용 ,  김민수 ,  정홍배

대한전기학회 학술대회 논문집

1994 .07