Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Simulation and Edge Profiles of Chemically Amplified Resists with Highly Contrast in the Deep Submicron Range by using the Electron Beam lithography

Young Mog Ham ,  Chang Buhm Lee ,  Soo Hwan Kim 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography

정선화 ,  조경천 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .10

Current Status and Future of Electron Beam Lithography

백기호 ,  김영식

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트

최재학 ,  노영창 ,  홍성권

공업화학

2006 .01

E-Beam Lithography 기술

손상희 ,  곽계달

전자공학회잡지

1984 .10

A New Simulation Model of Electron Beam Lithography for Manufacturing

함영목 ,  이원규 ,  김수환 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Resist 표면 거칠기 예측을 위한 전자빔 리소그라피 시뮬레이션에 관한 연구

김학 ,  한창호 ,  이기용 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

E-beam Lithography ( Equipment )

박선우

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Electron-Beam Lithography를 사용한 Sub-0.1㎛ T-Gate 제작에 관한 연구 ( Sub-0.1㎛ T-Gate Fabrication for Monolithic Microwave Integrated Circuits by Electron-Beam Lithography )

이수용 ,  신두식 ,  오재응 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1993 .01