ArF Excimer Laser Lithography

Masa ,  u Sasago

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Silicon Containing Positive Resist for ArF Excimer Laser Lithography

이해원 ,  김영대 ,  강영종 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Synthesis of a New Photoresists Containing Silicon for ArF Eximer Laser Lithography

이해원 ,  김성수 ,  최영만 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .10

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

The Optical System for ArF Excimer Laser Exposure Tool

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Excimer Laser Lithography Equipment

이종현

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Photochemical Deposition of Silicon and SiC Thin Film Using ArF Excimer Laser

Koichi Toyoda ,  Toshihi ,  o Taguchi

TENCON 87 - Computers and Communications Technology Toward 2000

1997 .01

Photoresist for ArF Immersion Lithography, Applicable for the Reflow Process

Ji Young Song ,  Dong Chul Seo ,  Seung Duk Cho 외 8명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

ArF Excimer Laser용 광학계의 Tolerancing

이각현 ,  정해빈 ,  유현준

광학세계

1994 .01

Study of Bottom Antireflective Coating Process Using a High-Transparency Resist for ArF Excimer Laser Lithography

Shinji Kishimu ,  a ,  Makoto Takahashi 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

A Silicon Containing Resist for KrF Excimer Laser Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Non-shrinkable photoresists based on camphor for ArF lithography

김진백 ,  오태환 ,  허윤희

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2004 .04

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Fabrication of White Light Source in Micron Size on Silicone Rubber by ArF Excimer Laser

Masayuki Okoshi ,  Minako Iyono ,  Na 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ArF Excimer Laser를 사용한 가스센서 ZnO와 $WO_3$ 박막의 제작 및 특성 측정

강준희 ,  오철민

한국재료학회 학술발표대회

2011 .01

시뮬레이션을 이용한 ArF 엑시머 레이저 노광장치용 광학계의 성능 분석 ( Simulated Performance of ArF Excimer Lasser Lithography Optics )

정해빈 ,  이각현 ,  김도훈 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04