Base Developable Photoresists Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전 ,  장지영 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .04

Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically Amplified photoresists for 248 nm based on derivated phenolic resins

전현표 ,  김기대 ,  박주현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

The Investingation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist

김정훈 ,  안성일 ,  김재현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Effects of Fluorine for Photoresist Properties

김진백 ,  김영우 ,  권영길 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2002 .10

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Photoresists for Interface and Thin Layer Imaging Processes

김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2011 .04

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Synthesis and Characterization of novel sulfonated polyimides using new type of sulfonated diamine

서민범 ,  최승혁 ,  김재헌 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04