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Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .04
Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Chemically amplified resists based on the norbornene copolymers with steroid derivatives
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .04
Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1992 .10
T-top Free Chemically Amplified Resists Containing Vinyllactam Derivatives
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .04
PED-Stabilized Chemically Amplified Resists Containing Basic Units in the Matrix Polymer
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1998 .04
Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .04
A PED-stabilized Chemically Amplified Resist
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .10
Chemically Amplified Resists Based on Poly(1,4-dioxaspiro[4.4]nonane-2-methyl methacrylate)
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .04
Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Cholic Acid Conjugated Cationic Methyl Cellulose Derivatives for Drug Delivery System
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2017 .04
극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트
공업화학
2006 .01
Preparation of nanoparticles based on cholic acid and gltcidyl methacrylate pullulan
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .10
Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .04
Copolymers of methacrylates with cholic acid derivtives and anhydrides for 193-nm photoresists
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2001 .04
Chemically amplified resists based on norbornene polymer with non-ourgassing acid labile group
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2000 .10
New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1997 .04
Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Diffusion and surface evaporation of photogenerated acid in basic polymers for PED stability of ArF chemically amplified resists
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
Chemically Amplified Resist based on the Norbornene Polymer with 2-Trimethylsilyl-2-propyl Ester Protecting Group
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .10
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