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이용수
Abstract
1. INTRODUCTION
2. ICP Etcher Model by CFD-ACE+
3. SIMULATION STUDY
4. CONCLUSIONS
A CKNOWLEDGMENT
REFERENCES
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나노패턴을 위한 CF₄/C₄F8/Ar 유도결합 플라즈마에서의 Si 및 SiO₂ 식각 메커니즘 연구
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2015 .11
Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
“누구나 달릴 수 있습니다”
콘크리트학회지
2003 .07
유도결합형 플라즈마를 이용한 백금 박막 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1998 .05
Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using $C_2F_6$ and $BCl_3-based$ gas Plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2006 .01
Pulse Biased Inductively Coupled Plasmas 를 이용한 Si 과 TiO₂ Nanostructure 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2019 .05
GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 식각시 O₂ 가스 첨가 효과
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .11
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1994 .06
Support Vector Machine을 이용한 Reactive Ion Etching의 Run-to-Run 오류검출 및 분석
한국정보통신학회논문지
2006 .05
Characteristics of Ag Etching using Inductively Coupled Halogen-based Plasmas
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2002 .01
Model-Based Analysis of the ZrO2 Etching Mechanism in Inductively Coupled BCl3/Ar and BCl3/CHF3/Ar Plasmas
[ETRI] ETRI Journal
2008 .06
Etching Characteristics of Contact Holes with a Phase-Controlled Pulsed Inductively Coupled Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
SF6/O₂ 플라즈마를 이용한 구리 표면 처리 후 표면 Corrosion 특성 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
도광판의 간격이 Chlorella vulgaris 증식에 미치는 영향
대한환경공학회지
2014 .03
건설차량 주행용 동력 전달계의 실시간 시뮬레이터에 관한 연구
한국자동차공학회논문집
1996 .03
X-Rays From Laser-Produced Plasmas
대한전자공학회 워크샵
1991 .01
Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
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