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이용수
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 요약
참고문헌
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유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 식각시 O₂ 가스 첨가 효과
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .11
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 건식 식각시 산소 가스 첨가 효과
전기학회논문지 C
1999 .06
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
유도 결합 BCI3 / CI2 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각 ( Dry Etching of Pt Thin Film in Inductive Coupled BCI3 / CI2 Plasmas )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
유도 결합 BCI₃/CI₂ 플라즈마내에서 Pt 박막의 건식 식각
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
CH₄/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
Dry etching of BST thin films using inductively coupled plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .11
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
반응성 이온 식각 장비에서 산소 플라즈마를 이용한 백금의 식각에 관한 연구 ( A Study on Pt Etch by Oxygen Plasma in Reactive Ion Etcher )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
Etching characteristics of PST thin film and ion energy distribution using inductively coupled plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .11
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
O₂/CF₄ 유도결합 플라즈마를 이용한 Polyimide 박막의 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .07
유도결합 플라즈마에 의한 ( Ba , Sr ) TiO3 박막의 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of ( Ba , Sr ) TiO3 Film by Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-D
1999 .04
평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
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