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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
[참고문헌]
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SiOCH 박막의 열처리에 대한 안정성 검토
전기전자재료학회논문지
2009 .01
Cu diffusion barrier로서의 Ta-Si-N 화합물의 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
SiOCH 박막의 열처리에 따른 전기적인 특성
전기전자재료학회논문지
2008 .01
Ellipsometry를 이용한 Low-k SiOCH 박막의 유전특성에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2008 .01
표면전하분석을 통한 SiOCH 박막의 유전특성 연구
Proceedings of KIIT Conference
2009 .06
열처리한 SiOCH 박막의 결합모드와 유전상수 특성
전기전자재료학회논문지
2009 .01
기공형성에 의한 SiOCH 박막의 유전 특성
반도체및디스플레이장비학회지
2009 .01
Improved Ta Diffusion Barrier Performance in Cu Metallization by Addition of a Thin Refractory Metal Layer into Ta Film With ion Bombardment
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
이온선 보조증착에 의한 Ta의 미세구조가 Cu의 확산 방지 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Ellipsometry를 이용한 저 유전상수를 갖는 SiOCH박막의 광학특성 연구
전기전자재료학회논문지
2010 .01
열처리한 SiOCH 박막의 기공형성에 의한 유전특성
Proceedings of KIIT Conference
2009 .06
구리 확산방지막으로서의 Ta와 Nb 박막의 특성에 관한 연구
한국재료학회지
1996 .01
Ta₂O₅의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .07
BTMSM/O₂ 유량변화에 따른 SiOCH 박막의 유전상수 특성
전기전자재료학회논문지
2008 .01
Thermal Stability of Ta-Ni Thin Films as Copper Diffusion Barrier
대한기계학회 춘추학술대회
2020 .07
구리 확산 방지막으로서 Ta, Nb박막의 특성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
유무선 통합 시스템에서 광전자 프리디스토션 기법을 적용한 선형 광송신기의 IMD3 & IMD5 향상 특성
한국통신학회 기타 간행물
2009 .12
Cu와 Si사이에 도입된 Ta/Cr이중층 확산방지막의 열적안정성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
MO-COMPOUNDS AN A DIFFUSION BARRIER BETWEEN Cu AND Si
한국표면공학회지
1996 .12
Ta₂O₅ 커패시터 박막의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2002 .05
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