Ellipsometry를 이용한 저 유전상수를 갖는  SiOCH박막의 광학특성 연구

박용헌

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자료유형: 학술저널

저자정보: 박용헌

저널정보: 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제23권 제3호

발행연도: 2010.1

수록면: 228 - 233 (6page)

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We studied the optical characteristics correlated with low dielectric constants of low-k SiOCH thin films through ellipsometry. The low-k SiOCH thin films were prepared by CCP-PECVD method using BTMSM(Bis-trimethylsilylmethane) precursors deposited on p-Si wafer. The Si-O-CHx, Si-O-Si, Si-CHx, CHx and Si-H bonding groups were specified by FTIR spectroscopic spectra, and the groups coupled with the nano-porous structural organic/inorganic hybrid-type of SiOCH thin films which has extremely low dielectric constant close to 2.0. The structural groups includes highly dense pore as well as ions in SiOCH thin films affecting to complex refraction characteristics of single layer on the p-Si wafer. The structural complexity originate the complex refractive constants of the films, and resulted the elliptical polarization of the incident linearly polarized light source of Xe-light source in the range from 190 nm to 2100 nm. Phase difference and amplitude ratio between s wave and p wave propagating through SiOCH thin film was studied. After annealing, the amplitude of p wave was reduced more than s wave, and phase difference between p and s wave was also reduced.

#Low-k #Ellipsometry #Index of refraction #Extinction coefficient #Low dielectric constant

참고문헌 (13)

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C. H. Ting / 1995 / Methods and needs for low-k material research / Mat. Res. Symp. Proc. : 3 ~

Chang-Su Hwang / 2009 / Correlation Study on the Optical Properties of Low-dielectric SiOC(-H) Thin Films from a BTMSM/O2 Precursor Deposited by Using Plasma Enhanced Chemica

Grill, A / 2001 / Ultralow-k dielectrics prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition / Appl. Phys. Lett. 79 : 803 ~

H. Neumann / 1979 / Growth and optical properties of CuGaTe2 thin films / Thin Solid Films 61 (1) : 13 ~

Jong-Wook Kim / 2010 / Correlation Study on the Low-Dielectric Characteristics of a SiOC(-H) Thin Film from a BTMSM/O2 Precursor / Journal of the Korean Physical Society 56 (

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