저온 나노임프린트 공정에서 압력과 폴리머 레지스트 초기 두께의 영향

김남웅; 김국원; 신효철

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김남웅 김국원 신효철

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.18 No.1

발행연도: 2009.2

수록면: 68 - 75 (8page)

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A major disadvantage of thermal nanoimprint lithography(NIL) is the thermal cycle, that is, heating over glass transition temperature and then cooling below it, which requires a significant amount of processing time and limits the throughput. One of the methods to overcome this disadvantage is to make the processing temperature lower. Accordingly, it is necessary to determine the effects on the processing parameters for thermal NIL at reduced temperatures and to optimize the parameters. This starts with a clear understanding of polymer material behavior during the NIL process. In this work, the squeezing and filling of thin polymer films into nanocavities during the low temperature thermal NIL have been investigated based upon a two-dimensional viscoelastic finite element analysis in order to understand how the process conditions affect a pattern quality; Pressure and initial polymer resist thickness dependency of cavity filling behaviors has been investigated.

#Low Temperature Nanoimprint(저온 나노임프린트) #Pressure(압력) #Initial Polymer Resist Thickness(폴리머 레지스트 초기 두께) #Finite Element Method(유한요소법)

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1. [학술지(정기간행물)] - Chou, S / 1997 / Imprint Lithography with Sub-10nm Feature Size and High Throughput / Microelectron. Eng 35 : 237 ~ 240

2. [학술지(정기간행물)] - Guo, L. J / 2004 / Recent Progress in Nanoimprint Technology and Its Applications / J. Phys. D: Appl. Phys. 37 : R123 ~ R141

3. [학술지(정기간행물)] - Hirai, Y / 2001 / Study of the Resist Deformation in Nanoimprint Lithography / J. Vac. Sci. Technol. B 19 : 2811 ~ 2815

4. [학술지(정기간행물)] - Hirai, Y / 2004 / Simulation and Experimental Study of Polymer Deformation in Nanoimprint Lithography / J. Vac. Sci. Technol. B 22 : 3288 ~ 3293

5. [학술지(정기간행물)] - 김남웅 / 2007 / 열-나노임프린트 공정의 점탄성 유한요소해석 / 마이크로전자 및 패키징학회지 14 (4) : 1 ~ 7

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