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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2014.4
- 수록면
- 1,838 - 1,843 (6page)
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나노 임프린트 리소그래피는 수십 나노미터에서 수십 마이크론에 이르는 패턴을 간단하고 저비용으로 대면적 기판에 제작할 수 있어 차세대 패터닝 기술로 주목 받고 있다.특히,발광소자,태양전지,디스플레이 등의 분야에서는 저반사 나노패 턴,광결정 패턴 등 기능성 패턴을 제작하고 이를 적용하는 연구가 활발히 진행 중에 있다.NIL공정을 통해 성공적으로 패턴을 전사시키기 위해서는 적절한 공정조건의 선택이 필요하다.이에 본 연구에서는 열 나노임프린트를 이용하여 모스아 이 패턴을 전사할 때,충전과정 및 잔류층 형성을 수치 해석하여 폴리머 레지스트의 점탄성 거동을 살펴 보았고,레지스트 초기 코팅 두께의 변화 및 가압력의 변화가 충전과정 및 잔류층에 미치는 영향을 조사하였다.해석결과 본 논문에서 고려된 PMMA의 경우,4MPa이상의 압력에서 100초 내로 충전공정이 완료되는 것으로 나타났다.
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참고문헌 (9)
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1. [학술지(정기간행물)] - 권무현 / 2011 / ZnO 나노 입자 분산 레진의 thermal imprinting 공정을 통한 기능성 패턴 제작 / 한국정밀공학회지 28 (12) : 1419 ~ 1424
2. [학술지(정기간행물)] - 배병주 / 2009 / 나노임프린트 리소그래피와 유연 PVA 템플릿을 이용한 렌즈 표면 moth-eye 패턴 형성에 관한 연구 / 한국표면공학회지 42 (2) : 59 ~ 62
3. [학술지(정기간행물)] - C. J. Ting / 2007 / Optical characteristics of silver film on the moth-eye structure / Journal of Mechanical Science and Technology 21 (10) : 1752 ~ 1755
4. [학술지(정기간행물)] - T. Glaser / 2005 / High temperature resistant antireflective moth-eye structures for infrared radiation sensors / Microsystem Technologies 11 (2-3) : 86 ~ 90
5. [학술지(정기간행물)] - Stephen Y. Chou / 1997 / Imprint lithography with sub-10 nm feature size and high throughput / Microelectronic Engineering 35 (1-4) : 237 ~ 240
2. [학술지(정기간행물)] - 배병주 / 2009 / 나노임프린트 리소그래피와 유연 PVA 템플릿을 이용한 렌즈 표면 moth-eye 패턴 형성에 관한 연구 / 한국표면공학회지 42 (2) : 59 ~ 62
3. [학술지(정기간행물)] - C. J. Ting / 2007 / Optical characteristics of silver film on the moth-eye structure / Journal of Mechanical Science and Technology 21 (10) : 1752 ~ 1755
4. [학술지(정기간행물)] - T. Glaser / 2005 / High temperature resistant antireflective moth-eye structures for infrared radiation sensors / Microsystem Technologies 11 (2-3) : 86 ~ 90
5. [학술지(정기간행물)] - Stephen Y. Chou / 1997 / Imprint lithography with sub-10 nm feature size and high throughput / Microelectronic Engineering 35 (1-4) : 237 ~ 240
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