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한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회 논문집 Vol.18 No.2
발행연도
2009.4
수록면
144 - 153 (10page)

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It is widely known that no-slip assumptions are often violated on regular basis in micrometer- or nanometer-scale fluid flow. In the case of cavity-filling process of nanoimprint lithography(NIL), slip phenomena take place naturally at the solid-to-liquid boundaries, that is, at the mold-to-polymer or polymer-to-substrate boundaries. If the slip or partial slip phenomena are promoted at the boundaries, the processing time of NIL, especially of thermal-NIL which consumes more tact time than that of UV-NIL, can be significantly improved. In this paper it is aimed to elucidate how the cavity-filling process of NIL can be influenced by the slip phenomena at boundaries and to what degree those phenomena increase the process rate. To do so, computational fluid dynamics(CFD) analysis of cavity filling process has been carried out. Also, the effect of mold pattern shape and initial thickness of polymer resist were considered in the analysis, as well.

목차

Abstract
1. 서론
2. 수치 해석 방법 및 조건
3. 해석 결과
4. 결론
참고문헌

참고문헌 (15)

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