A Study on the Uniformity Improvement of Residual Layer of a Large Area Nanoimprint Lithography

Kim, Kug-Weon; Noorani, Rafigul I.; Kim, Nam-Woong

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자료유형: 학술저널

저자정보: Kim, Kug-Weon (Dept. of Mechanical Engineering, Soonchunhyang University) Noorani, Rafigul I. (Dept. of Mechanical Engineering, Loyola Marymount University) Kim, Nam-Woong (School of Mechanical Engineering, Dongyang Mirae University)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제9권 제4호

발행연도: 2010.1

수록면: 19 - 23 (5page)

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Nanoimprint lithography (NIL) is one of the most versatile and promising technology for micro/nano-patterning due to its simplicity, high throughput and low cost. Recently, one of the major trends of NIL is large-area patterning. Especially, the research of the application of NIL to TFT-LCD field has been increasing. Technical difficulties to keep the uniformity of the residual layer, however, become severer as the imprinting area increases. In this paper we performed a numerical study for a large area NIL (the $2^nd$ generation TFT-LCD glass substrate ($370{\times}470$ mm)) by using finite element method. First, a simple model considering the surrounding wall was established in order to simulate effectively and reduce the computing time. Then, the volume of fluid (VOF) and grid deformation method were utilized to calculate the free surfaces of the resist flow based on an Eulerian grid system. From the simulation, the velocity fields and the imprinting pressure during the filling process in the NIL were analyzed, and the effect of the surrounding wall and the uniformity of residual layer were investigated.

#Nanoimprint Lithography #Large Area #Residual Layer Uniformity

참고문헌 (7)

참고문헌 신청

Chou, S / 1997 / Imprint lithography with sub-10nm feature size and high throughput / Microelectronic Engineering 35:237~240

Guo,L.J / 2004 / Recent progress in nanoimprint technology and its applications / J. Phys. D: Appl. Phys 37:R123~R141

Kim, N. W / 2008 / Finite element analysis of low temperature thermal nanoimprint lithography using a viscoelastic model / Microelectronic Engineering 85:1858~1865

Kim, N. W / 2009 / A mathematical model for slip phenomenon in a cavity-filling process of nanoimprint lithography / Microelectronic Engineering 86:2324~2329

Heyderman, L. J / 2000 / Flow behaviour of thin polymer films used for hot embossing lithography / Microelectronic Engieering 54:229~245

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